李玉琢博士是化學機械研磨（CMP）行業(yè)著名專家蟋晾、美國Clarkson大學教授，他在CMP世界中享有極高的知名度加袋，近期淤汽，記者對李博士進行了專訪剿骨。

　　您是怎樣進入CMPCMP研究領域的歧譬？

　　我一直以來都想成為一名教師宾芥。我被神秘的化學反應及材質(zhì)研究吸引著,而且我認為優(yōu)秀的教師必定首先是一位優(yōu)秀的研究者脸狸。我自中國南開大學高分子專業(yè)畢業(yè)后進入Lllions大學并取得有機化學博士學位,進而成為一名其大學研究中心的一名教授钳枕。在1997年,帶領我進入CMP研究領域的S.V.Babu教授缴渊，介紹我一起參與在由Ferro&NYSERDA提攜的銅制CMP研究機制的研究項目赏壹。一方面我自身具有的豐富有機和過氧化氫化學的知識為該研究項目提供了其所需的幫助，另一方面項目本身也為我提供了一個良好的機會衔沼，可以致力于微電子學的研究開發(fā)蝌借。我很快意識到我優(yōu)秀的有機化學知識背景能夠給CMP團隊帶來一個很好的研究預期效果。我想我已經(jīng)能夠創(chuàng)造性地并且能夠有效地利用那些研究成果為CMP領域服務指蚁。請您說明一下

　　請您說明一下CMPCMP的未來發(fā)展趨勢

　　我們致力于CMP消耗品例如研磨液或研磨墊的研發(fā)菩佑。關于研磨液，從超硬金剛石至極為柔軟的膠團囊泡凝化，我們學習到各種各樣的磨蝕微粒排列稍坯，從而啟發(fā)我們推動在化工互相作用中化學添加劑與研磨微粒的表面吸附的競爭，并使之影響于CMP研磨液的生產(chǎn)工藝搓劫。我們一直在研究機械原理以及CMP生產(chǎn)工序中不斷出現(xiàn)的缺陷瞧哟，就如EOE工藝。對于研磨墊枪向，我們研究的重點是適合各種研磨液工藝使用的新一代的研磨墊勤揩，我們稱之為Reactive Pad。

　　什么使你對從事CMPCMP研發(fā)如此感興趣堡雁？

　　我們可以逐漸地把創(chuàng)新性的思想引入并實施在CMP過程的諸多具有挑戰(zhàn)性的方面搀尊。作為一名化學家，這是令人興奮的事情淹疙。我們的研究能夠對某種產(chǎn)品的開發(fā)有所幫助，這種產(chǎn)品的問世杜域，將對從冷卻器件到長壽命的裝置這類微電子產(chǎn)品的制造起到關鍵作用柴哈。

　　對于半導體及CMPCMP業(yè)界有何遠見？

　　以及Cu CMP的技術發(fā)展趨勢唁谣，請談談您的看法冶巴。的技術發(fā)展趨勢，請談談您的看法溪惶。我認為摩爾定律將繼續(xù)有效顺鸯，而且會不斷更新最小極限。半導體工藝也在以令人驚訝的速度在刷新技術终距。我們的科學家工程師們也將不斷提出他們自己的新想法尊捞，最終找到可以打開10納米甚至5納米研究的困難之結癥的通道。CMP也會繼續(xù)得到重大意義上的發(fā)展宏怔，在半導體制造業(yè)的技術上會突破22納米奏路。我認為目前在10納米的技術范圍內(nèi)尚未找出銅的可體換互相材料。在CMP世界中”化學”與”機械”的橋梁是非常令人著迷的.

　　金剛石的展望

　　對于金剛石臊诊，我們已經(jīng)有創(chuàng)新性的想法鸽粉，并且得到實現(xiàn)斜脂。這些方法用來處理材料連接的阻礙作用、熱散失触机、降低使用缺陷脆性材料時的缺陷以及顯著降低CMP操作的成本帚戳。

　　請說說你們正在進行的除CMPCMP以外其他方面的研究？

　　除了CMP消耗品的研究外儡首，我們在其他領域也取得了突破性的進展片任，　例如　醫(yī)療成像的對比代理 (AGEN)的研究，可控藥物釋放機制椒舵，能量獨立的新的光催化劑等等蚂踊。

　　還有什么想告訴我們的嗎？

　　我們成功的關鍵是我們的學生（在學生及已畢業(yè)的）笔宿，博士后犁钟，以及那些具有高效而富有創(chuàng)造性工作的訪問學者。而且極其幸運的是徙掠，　我們的研究隊伍得到CLARKSON大學的強大支持恃葫。CLARKSON大學不僅提供了學生良好的教育環(huán)境，并且在給教師提供大量與工業(yè)界合作的機會方面是獨一無二的乌窿。高級材料過程(CAMP)中心就是其中一個極為突出的例子悉镜。