目前隨著印制線路板向高密度盈侣、高精度方向發(fā)展峡眶，對(duì)硫酸鹽鍍銅工藝提出了更加嚴(yán)格的要求附柜，必須同時(shí)控制好鍍銅工藝過程中的各種因素位谋，才能獲得高品質(zhì)的鍍層。下面針對(duì)鍍銅工藝過程中出現(xiàn)氯離子消耗過大的現(xiàn)象宦棺，分析氯離子消耗過大的原因沾鳄。
出現(xiàn)氯離子消耗過大的前因
鍍銅時(shí)線路板板面的低電流區(qū)出現(xiàn) " 無光澤 " 現(xiàn)象，氯方子濃度偏低响疚；一般通過添加鹽酸后鄙信，板面低電流密度區(qū)的鍍層 " 無光澤 " 現(xiàn)象才能消失，鍍液中的氯離子濃度才能達(dá)到正常范圍忿晕，板面鍍層光亮装诡。如果要通過添加大量鹽酸來解決低電流密度區(qū)鍍層 " 無光澤 " 現(xiàn)象，就不一定是氯離子濃度太低而造成的践盼，需分析其真正的原因慎王。如果采取添加大量鹽酸：一來，可能會(huì)產(chǎn)生其它后果嚼般，二來增加生產(chǎn)成本偿股，不利于企業(yè)競爭。
正確分析 " 低電流密度區(qū)鍍層無光澤 " 原因
通過添加大量的鹽酸來消除 " 低電流密度區(qū)鍍層不光亮 " 現(xiàn)象棱硝，說明如是氯離子過少堤麻，才需添加鹽酸來增加氯離子的濃度達(dá)到正常范圍，使低電流密度區(qū)鍍層光亮着届。如果要添加成倍的鹽酸才能使氯離子的濃度達(dá)到正常范圍紧甫？是什么在消耗大量的氯離子呢？氯離子濃度太高會(huì)使光亮劑消耗快抢必。說明氯離子與光亮劑會(huì)產(chǎn)生反應(yīng)匀洪，過量的氯離子會(huì)消耗；反過來耗鲸，過量的光亮劑也消耗氯離子厕扼。因?yàn)槁入x子過少和光亮劑過量都是造成低電流密度區(qū)鍍層不光亮 " 的主要原因，因此可見懒潘，造成 " 鍍銅中氯離子消耗過大的主要原因是光亮劑濃度太高胚茴。 |
